Компания ASML, известная своими литографическими машинами, становится объектом конкуренции со стороны американского стартапа Substrate. Хотя имя ASML большинству не знакомо, ее технологии используются в производстве современных полупроводников. Substrate намерена разработать литографическое оборудование, которое будет сопоставимо с машинами ASML EUV, но вместо экстремального ультрафиолетового излучения оно будет использовать коротковолновое рентгеновское излучение, созданное при помощи ускорителя частиц. Стартап уже собрал 100 миллионов долларов от таких инвесторов, как Founders Fund, и его оценка достигла 1 миллиарда долларов. Substrate уверяет, что их инновационная технология позволит существенно снизить затраты на литографию по сравнению с оборудованием ASML. Кроме того, использование рентгеновского излучения с более короткой длиной волны обещает обеспечить более качественное изображение чипов.
0
Понравилась статья? Поделиться с друзьями:
Вам также может быть интересно
Анонимная наркологическая помощь: как сохранить репутацию и получить лечение Когда речь заходит о
Мир коллекционирования переживает значительные трансформации. Если раньше собирательство марок или монет воспринималось исключительно как
Компания Ugreen анонсировала новую модель портативного аккумулятора MagFlow 2-в-1, сертифицированного по стандарту MagSafe. Этот
При выборе игрового процессора необходимо находить баланс между ценой и производительностью, чтобы максимально использовать
Наш сервис предоставляет возможность переписывать новости, сохраняя при этом все важные факты. Мы изменяем
Самоподписанные сертификаты часто используются для тестирования и разработки, так как они позволяют пользователю создавать